無電解ニッケルめっき液です。
主な用途は、プリント基板、自動車用部品、各種電子部品です。
金属や非伝導物質にニッケル-リン皮膜を析出する無電解プロセスです。リン比率7~9%までの半光沢~光沢ニッケル半光沢皮膜をめっきすることができます。浴の管理は容易で、安定性の高さ、特に浴寿命の長さをその特徴とします。
70g/Lまでのニッケル金属を析出させることができます。初期状態では15~18m/hのめっきが可能ですが、ニッケルの析出が60g/lを超えるとめっき速度は10~12mに低下します。
浴はアンモニアを使用しなくても稼働可能です。